近五年来，高岭石间接插层复合物的液相剥离有较大进展。经直接插层后，对高岭石进行修饰处理，将直接插层的小分子替换，将高岭石的铝羟基面做出改性，这样就能将高岭石物质转换为一种高效率的插层接受体，再使用烷基胺、季铵盐、硬脂酸等尺寸和质量相对大的分子对甲氧基嫁接改性之后的高岭石进行嫁接—替代插层，形成层间距较大的高岭石插层复合物，以期达到剥片的效果。值得注意的是，当高岭石单元片层脱离母体颗粒进夜相剥离介质时，由于硅氧四面体与铝氧八面体共用氧原子而形成的结构错位产生了使其单元层卷曲的驱动力，单元片层不再束缚于原氢键作用力，于是，片层发生弯折甚至剥离且自动卷曲为高岭石纳米卷。这个过程概括为三个阶段：

      ①制备高岭石—脲、高岭石—二甲基亚砜、高岭石—甲基甲酰胺等直接插层复合物作为前驱体；②醇、醚等液相环境下针对内表面的嫁接修饰；③烷基胺、季铵盐、脂肪酸类等较大分子的插层和高岭石片层在液相环境下的剥离。

       在高岭石一聚合物纳米复合材料制备中，若未经由液相过程，其剥片则多为机械力而引起，固态或半固态环境中不含有类似液相环境下的自由空间，也就无法产生触发卷曲的有利条件，最终形成的剥片效果有限。